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ITO高光透导电玻璃镀膜线

　　设备简述


　　本公司生产的ITO高光透导电玻璃镀膜线，是用氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)靶材和其它金属靶材组合，在高度净化的厂房环境中，利用平面磁控技术，在超薄玻璃上溅射氧化铟锡导电薄膜镀层得到的高技术产品。广泛地用于液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域，在压克力板材、玻璃、陶瓷、手机壳、电脑、PC、PET等表面磁控溅射高质量、多功能金属膜、防干扰电磁屏蔽膜(EMI)、反应膜、复合膜、透明导电膜(ITO)、抗反射膜(AR)、增反射膜等。具有大吞吐量连续式磁控金属化生产，采用同行业最先进的生产工艺，极大地提高了膜层与工件的结合力、附着力。

　　设备参数

腔体

4pcs

进/出架室

L2600×W300×H2200mm

1.72m3

进/出架储气罐室

Φ500×H1600mm

2.51m3

占地

30m×10m

进/出架传输室

L2500×W200×H2000mm

1.00m3

镀膜室主真空室

L1300×W250×H2200mm

0.72m3

玻璃架镀膜窗口尺寸

L2300×H1600

进/出玻璃架节拍

5 mins

应用技术

磁控溅射

电源

直流电源40KW，中频电源40kw

磁控靶

14pcs

ITO平面靶4支,Al圆柱靶8支, Cu圆柱靶1支, SS圆柱靶1支

应用

液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域玻璃连续镀膜

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