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工具镀膜设备

ZY-1185 多弧离子真空镀膜机是用于在各种工具、刀具、抗磨零件等表面涂装硬质或超硬质耐磨涂层的专用设备。设备合理配备多套最新研制的阴极电弧,有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性,同时采用先进的多路进气系统,精准控制气体流量,满足客户多种化合物膜层需求。另外,本品还装载大功率脉冲偏压电源,能极大提高电离子能量,保证离化率高、离子能量大、沉积速度快,从而获得优秀的膜层结合力和光洁度。
产品详情
  • 设备介绍

    ZY-1185 多弧离子真空镀膜机是用于在各种工具、刀具、抗磨零件等表面涂装硬质或超硬质耐磨涂层的专用设备。设备合理配备多套最新研制的阴极电弧,有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性,同时采用先进的多路进气系统,精准控制气体流量,满足客户多种化合物膜层需求。另外,本品还装载大功率脉冲偏压电源,能极大提高电离子能量,保证离化率高、离子能量大、沉积速度快,从而获得优秀的膜层结合力和光洁度。


    设备特点

    电弧在靶材整个表面做快速移动,靶材表面被均匀刻蚀,优化了涂层结合力,涂层表面光滑致密,且具有优异的涂层附着力。

    拥有更快的批次周转效率和涂层生产效率。

    在有效镀层范围内涂层厚度均匀。

    高质量的硬质涂层允许工具具有更高的切削和进料速度,并由于延长使用寿命而减少了更换工具的时间,从而降低了总加工成本。

    涂层的摩擦性和硬度允许减少润滑和冷却,保证加工零件的表面质量更好。


    设备参数

    炉体尺寸
    φ1100×H850
    有效空间
    φ550×H500
    极限压力
    5.0×10-4Pa
    抽气时间
    大气到4X10-3 <20分钟
    真空系统
    分子泵、罗茨泵、旋片泵
    电源类型
    弧电源、脉冲偏压电源、枪电源
    工件转架结构
    下转架结构
    应用技术
    HCD+ARC
    标准涂层
    TiN、CrN、AlTiN等
    可选涂层
    TiAlCrN等
    生产周期
    3-5小时/炉
    外围尺寸
    L4000×W3200×H2200  MM
    实际功率
    50KW
    产量/炉

    铣刀φ10×70  680 

    刀粒φ18×6   5000 

    滚刀φ80×80  48  

    模具         500KG
    配套条件

    循环水压力:2-3KG/CM3   水量:10T/H     压缩空气:4-6 KG/CM3

    工作气体
    Ar、N2、O2、C2H2
    控制方式
    手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC(自己开发的镀膜专用软件)

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