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磁控溅射镀膜机

中频磁控真空镀膜机主要用于在基片上镀制金属膜、半导体膜、绝缘膜、硬质膜、耐热膜、耐腐蚀膜、超导膜、磁性膜、光学膜等各种特殊性能的薄膜。ZY-1212钟表装饰镀膜机结合了离子镀膜与磁控溅射的各种优势,所镀膜层光滑、上色均匀、亮度好、附着力强,非常适合在表盘、表带等产品表面镀制各种颜色和厚度的高质量的耐磨装饰膜层。
产品详情
  • 设备介绍

    中频磁控真空镀膜机主要用于在基片上镀制金属膜、半导体膜、绝缘膜、硬质膜、耐热膜、耐腐蚀膜、超导膜、磁性膜、光学膜等各种特殊性能的薄膜。ZY-1212钟表装饰镀膜机结合了离子镀膜与磁控溅射的各种优势,所镀膜层光滑、上色均匀、亮度好、附着力强,非常适合在表盘、表带等产品表面镀制各种颜色和厚度的高质量的耐磨装饰膜层。


    设备特点

    膜厚可控性和重复性好。能够轻松镀制预定厚度的薄膜,并且可以在较大的表面上获得厚度均匀的膜层。

    薄膜与基片的附着力强。

    可制备特殊材料的薄膜。可以使用不同的材料同时溅射制备混合膜、化合膜。

    电气控制系统可手动/半自动、PLC


    设备参数


    炉体尺寸
    φ1200×H1200
    有效空间
    φ850×H900
    极限压力
    5.0×10-4Pa
    抽气时间
    大气到4X10-3 <20分钟
    真空系统
    分子泵、罗茨泵、旋片泵
    电源类型
    直流逆变电源、脉冲偏压电源、中频磁控电源、直流磁控电源
    工件转架结构
    下转架结构
    应用技术
    ZP+ARC     PMB +LZY(选配)
    标准涂层效果
    IP黑,玫瑰金,IP金,宝石蓝,香槟金,炫银,咖啡色,七彩,枪黑色,锆金,玫瑰红等
    生产周期
    0.5-2小时/炉
    外围尺寸
    L 3300×W2900×H2500 MM
    实际功率
    90KW
    配套条件

    循环水压力:2-3KG/CM3

    水量:10T/H 

    压缩空气:4-6 KG/CM3
    工作气体
    Ar、N2、O2、C2H2
    控制方式

    手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC(自己开发的镀膜专用软件)


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