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磁控溅射镀膜机


设备介绍

中频磁控真空镀膜机主要用于在基片上镀制金属膜、半导体膜、绝缘膜、硬质膜、耐热膜、耐腐蚀膜、超导膜、磁性膜、光学膜等各种特殊性能的薄膜。ZY-1212钟表装饰镀膜机结合了离子镀膜与磁控溅射的各种优势,所镀膜层光滑、上色均匀、亮度好、附着力强,非常适合在表盘、表带等产品表面镀制各种颜色和厚度的高质量的耐磨装饰膜层。


设备特点

膜厚可控性和重复性好。能够轻松镀制预定厚度的薄膜,并且可以在较大的表面上获得厚度均匀的膜层。

薄膜与基片的附着力强。

可制备特殊材料的薄膜。可以使用不同的材料同时溅射制备混合膜、化合膜。

电气控制系统可手动/半自动、PLC


设备参数


炉体尺寸
φ1200×H1200
有效空间
φ850×H900
极限压力
5.0×10-4Pa
抽气时间
大气到4X10-3 <20分钟
真空系统
分子泵、罗茨泵、旋片泵
电源类型
直流逆变电源、脉冲偏压电源、中频磁控电源、直流磁控电源
工件转架结构
下转架结构
应用技术
ZP+ARC     PMB +LZY(选配)
标准涂层效果
IP黑,玫瑰金,IP金,宝石蓝,香槟金,炫银,咖啡色,七彩,枪黑色,锆金,玫瑰红等
生产周期
0.5-2小时/
外围尺寸
L 3300×W2900×H2500 MM
实际功率
90KW
配套条件

循环水压力:2-3KG/CM3

水量:10T/H 

压缩空气:4-6 KG/CM3
工作气体
Ar、N2O2C2H2
控制方式

手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC(自己开发的镀膜专用软件)






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