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ITO高光透导电玻璃镀膜线

本公司生产的ITO高光透导电玻璃镀膜线,是用氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)靶材和其它金属靶材组合,在高度净化的厂房环境中,利用平面磁控技术,在超薄玻璃上溅射氧化铟锡导电薄膜镀层得到的高技术产品。
产品详情
  •  设备简述


      本公司生产的ITO高光透导电玻璃镀膜线,是用氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)靶材和其它金属靶材组合,在高度净化的厂房环境中,利用平面磁控技术,在超薄玻璃上溅射氧化铟锡导电薄膜镀层得到的高技术产品。广泛地用于液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域,在压克力板材、玻璃、陶瓷、手机壳、电脑、PC、PET等表面磁控溅射高质量、多功能金属膜、防干扰电磁屏蔽膜(EMI)、反应膜、复合膜、透明导电膜(ITO)、抗反射膜(AR)、增反射膜等。具有大吞吐量连续式磁控金属化生产,采用同行业最先进的生产工艺,极大地提高了膜层与工件的结合力、附着力。

      设备参数

    腔体

    4pcs

    /出架室

    L2600×W300×H2200mm

    1.72m3

    /出架储气罐室

    Φ500×H1600mm

    2.51m3

    占地

    30m×10m

    /出架传输室

    L2500×W200×H2000mm

    1.00m3

    镀膜室主真空室

    L1300×W250×H2200mm

    0.72m3

    玻璃架镀膜窗口尺寸

    L2300×H1600

    /出玻璃架节拍

    5 mins

    应用技术

    磁控溅射

    电源

    直流电源40KW,中频电源40kw

    磁控靶

    14pcs

    ITO平面靶4,Al圆柱靶8, Cu圆柱靶1, SS圆柱靶1

    应用

    液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域玻璃连续镀膜

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